程序升溫化學(xué)吸附儀
化學(xué)吸附儀
產(chǎn)品介紹
能夠進(jìn)行多種化學(xué)吸附和程序升溫反應(yīng)研究，可獲得催化劑、催化劑載體和其他各種材料物理特性的信息。研究人員可以研究活性金屬表面積、表面酸性、活性位點(diǎn)的分布和強(qiáng)度、比表面積以及其他性質(zhì)。GCHX系列化學(xué)吸附儀可進(jìn)行脈沖化學(xué)吸附、程序升溫還原(TPR) 、程序升溫脫附(TPD) 、程序升溫氧化(TPO) 和程序升反應(yīng)等，且在同一個(gè)實(shí)驗(yàn)中設(shè)計(jì)多種分析。
性能指標(biāo)
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
應(yīng)用場(chǎng)景
性能指標(biāo)
進(jìn)氣口數(shù)量：
1、氣路入口：6個(gè)(可擴(kuò)展至10個(gè)，多路載氣、多路反應(yīng)氣;混合器內(nèi)置)
2、液路入口：1個(gè)(可選配蒸汽發(fā)生裝置)
測(cè)試氣體：
1、載氣： N2、Ar、 He、H2等
2、反應(yīng)氣：H2、O2、CO、NO、SO2、NH3、H2S等
硬件系統(tǒng)控制：
1、分析壓力：常壓-- -8MPa (可選)精度: +0.3% Of Reading
2、溫控系統(tǒng)：選用日本島電控溫裝置，對(duì)管路、蒸汽發(fā)生器、爐子、TCD等均可實(shí)現(xiàn)溫度控制；控溫精度為±1%
3、爐子溫度：室溫-1200°C；爐子控溫精度：0.2%FS
升溫控制：至少10段程序升溫控制程序
升溫速率：0-100°C/min (可實(shí)現(xiàn)分段控溫)
0-500°C (升溫速率0-100°C)
500°C-750°C (升溫速率0-50°C)
750°C-1000°C (升溫速率0-30°C)
1000°C-1200°C (升溫速率0-20°C)
4、蒸汽發(fā)生器：0-300°C (可選，溫度上限可設(shè)置，防止過(guò)熱)
5、流量控制：數(shù)字質(zhì)量流量控制器，流量范圍0~100sccm (m/min)
6、反應(yīng)器：耐高溫U型歧路石英反應(yīng)器，使用溫度上限1200°C；獨(dú)創(chuàng)U型石英歧路反應(yīng)器，可充分預(yù)熱反應(yīng)氣體，并可準(zhǔn)確獲得床層溫度、反應(yīng)爐內(nèi)溫度，提高溫度控制精度。
7、信號(hào)檢測(cè)：獨(dú)創(chuàng)四臂PT鍍金TCD檢測(cè)器，具有極強(qiáng)的抗氧化和抗氨腐蝕的能力，穩(wěn)定的電流控制保證了基線穩(wěn)定性和測(cè)試重現(xiàn)性信號(hào)
(1) TCD溫度: 0-300°C
(2) TCD恒溫精度: 0.1%FS
8、氣路控制系統(tǒng)：高精度十二位一體電磁閥控制模塊
9、防冷凝：0~250*C 確保儀器不銹鋼管線、閥門和TCD探測(cè)器無(wú)“冷點(diǎn)”
10、系統(tǒng)：可升降電爐+貫穿式強(qiáng)風(fēng)冷系統(tǒng)，可快速降溫，從高溫到100°C冷卻時(shí)間< 25分鐘
數(shù)據(jù)處理：軟件可直觀顯示每個(gè)操作流程，界面可顯示時(shí)間，溫度和信號(hào)輸出，實(shí)現(xiàn)對(duì)反應(yīng)的實(shí)時(shí)監(jiān)控；提供峰選擇、編輯、積分和數(shù)據(jù)平滑處理，并能手動(dòng)標(biāo)注相關(guān)數(shù)據(jù)，數(shù)據(jù)能夠?qū)隕XCEL或者WORD、PNG等。
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
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內(nèi)部控溫區(qū)可獨(dú)立加熱
避免管路中存在冷凝點(diǎn) -
高靈敏度的線性熱傳導(dǎo)檢測(cè)器
確保校準(zhǔn)體積保持恒定 -
高精度的質(zhì)量流量計(jì)
確?；€穩(wěn)定和精確測(cè)量氣體體積 -
抗腐蝕性檢測(cè)器
減少燈絲氧化 -
可在低溫條件下進(jìn)行反應(yīng)
滿足貴金屬催化反應(yīng)研究
應(yīng)用場(chǎng)景
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程序升溫化學(xué)吸附儀
程序升溫化學(xué)吸附儀場(chǎng)景圖
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